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@a稀磁半导体材料的理论设计与计算@Axi ci ban dao ti cai liao de li lun she ji yu ji suan@f卢一林, 崔方超, 董盛杰著
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@a北京@c冶金工业出版社@d2025.07
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@a174页@c图@d24cm
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@a英文题名取自封面
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@a有书目 (第152-174页)
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@a本书主要介绍了几种新型稀磁材料的电子结构和磁学性质, 讨论、分析了这些稀磁材料的磁性耦合机制以及磁性起源问题, 为高新技术材料的合成与设计以及离子掺杂理论的探索提供可资借鉴的重要理论和方法。
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@aTheoretical design and computational studies of diluted magnetic semiconductors@zeng
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@a稀磁合金@Axi ci he jin@x半导体材料@x设计@x计算
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| 稀磁半导体材料的理论设计与计算/卢一林, 崔方超, 董盛杰著.-北京：冶金工业出版社，2025.07 |
| 174页：图；24cm |
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| ISBN 978-7-5240-0295-6：CNY80.00 |
| 本书主要介绍了几种新型稀磁材料的电子结构和磁学性质, 讨论、分析了这些稀磁材料的磁性耦合机制以及磁性起源问题, 为高新技术材料的合成与设计以及离子掺杂理论的探索提供可资借鉴的重要理论和方法。 |
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正题名：稀磁半导体材料的理论设计与计算
索取号：TM27/4
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备注
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十四楼书库/
[索取号:TM27/4]
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十四楼书库/
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十四楼书库/
[索取号:TM27/4]
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