|
书名：
|
集成电路制造技术
|
|
|
作者：
|
杜中一
著
|
|
出版信息：
|
北京
化学工业出版社
2016.03
|
|
开本页数：
|
24cm
172页
|
|
丛书名：
|
|
|
单 册：
|
|
|
中图分类：
|
TN405
，
TN4
|
|
科图分类：
|
|
|
主题词：
|
集成电路工艺
|
|
电子资源：
|
|
|
ISBN：
|
978-7-122-26284-4
|
|
000
|
00884nam0 22002291 450
|
|
001
|
0114114203
|
|
005
|
20170821164323.73
|
|
010
|
|
@a978-7-122-26284-4@dCNY35.00
|
|
100
|
|
@a20160422d2016 em y0chiy50 ea
|
|
101
|
0
|
@achi
|
|
102
|
|
@aCN@b110000
|
|
105
|
|
@aa z 000yy
|
|
200
|
1
|
@a集成电路制造技术@f杜中一著
|
|
210
|
|
@a北京@c化学工业出版社@d2016.03@h2017.06第2次印刷
|
|
215
|
|
@a172页@c图@d24cm
|
|
330
|
|
@a本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。
|
|
606
|
0
|
@a集成电路工艺
|
|
690
|
|
@aTN405@v5
|
|
690
|
|
@aTN4@v4
|
|
701
|
0
|
@a杜中一@Adu zhong yi@4著
|
|
801
|
0
|
@aCN@bBJJX@c20170821
|
|
905
|
|
@dTN4@e42@f3
|
|
|
|
|
| |
| 集成电路制造技术/杜中一著.-北京：化学工业出版社，2016.03(2017.06第2次印刷) |
| 172页：图；24cm |
| |
| |
| ISBN 978-7-122-26284-4：CNY35.00 |
| 本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。 |
| ● |
正题名：集成电路制造技术
索取号：TN4/42
预约/预借
| 序号
|
登录号
|
条形码
|
馆藏地/架位号
|
状态
|
备注
|
|
1
|
0900071
|
209000711
|
十四楼书库/14E08A0604/
[索取号:TN4/42]
|
在馆
|
架位导航
|
|
2
|
0900072
|
209000720
|
十四楼书库/14E08A0604/
[索取号:TN4/42]
|
在馆
|
架位导航
|
|
3
|
0900073
|
209000739
|
十四楼书库/14E08A0604/
[索取号:TN4/42]
|
在馆
|
架位导航
|
